Guía de V-Ray Enmesh: superficies repetitivas en 3ds Max y Houdini

V-Ray Enmesh se utiliza para colocar repetidamente una geometría de patrón sobre otra superficie de malla durante el render. La documentación de Chaos para 3ds Max y Houdini explica cómo crear patrones y aplicarlos a una superficie. Esta guía reúne los flujos de trabajo documentados para VRayEnmeshMod en 3ds Max y el nodo V-Ray Enmesh en Houdini. El documento de 3ds Max se actualizó el 4 de mayo de 2026 y el de Houdini, el 18 de septiembre de 2025. La documentación no especifica una versión concreta del software como requisito general; sí señala que la interfaz podría verse algo distinta en 3ds Max 2018 debido a las limitaciones de la versión de Qt.

¿Para qué superficies se puede usar Enmesh?

Chaos incluye tejidos de punto, cotas de malla y redes entre los usos de Enmesh. En 3ds Max, se pueden añadir varias mallas a la lista Objects para que formen una sola instancia del patrón. Esta geometría se repite por toda la superficie base, mientras que el gizmo o la caja de recorte define el alcance de la instancia.

En escenas de visualización arquitectónica, puede utilizarse para superficies metálicas perforadas, mallas de alambre o detalles decorativos repetitivos. Son posibles aplicaciones basadas en la función de Enmesh para generar geometría repetitiva; la documentación no promete mejoras de rendimiento ni reducciones del tiempo de render en una escena concreta. Antes de empezar, separar la geometría de la superficie de las mallas que componen el patrón facilita identificar la función de cada objeto.

Configuración de VRayEnmeshMod en 3ds Max

1. Selecciona la superficie donde se aplicará el patrón. Añade el modificador a la malla de destino. Las rutas que muestra la documentación son V-Ray > Create > Modifiers > V-Ray EnMesh Mod, Modifiers > V-Ray > V-Ray EnMesh Mod y, en el panel de comandos, Modify > Modifier List > VRayEnmeshMod. Ten en cuenta que la interfaz puede verse distinta en 3ds Max 2018.

2. Añade las mallas del patrón a la lista. Add incorpora las mallas a la lista Objects; Remove quita los elementos seleccionados y Remove all vacía la lista. Los objetos incluidos forman la instancia del patrón definida por la caja de recorte. Añadir varias mallas permite teselar patrones compuestos por varias piezas.

3. Ajusta la caja de recorte. Crop box size X/Y/Z define las dimensiones de la caja en cada eje. Fit in object space ajusta su tamaño y posición para abarcar toda la geometría incluida en la lista. La posición de la caja respecto a la instancia puede afectar a la forma en que se unen las repeticiones. En el ejemplo de Chaos, los bordes de la caja se alinean con el centro de la circunferencia de las geometrías de toro para lograr una repetición continua.

4. Ajusta la distribución de las repeticiones en la superficie. Tiling U/V cambia el factor de teselado sobre el mapeado de la superficie. Offset U/V desplaza el patrón a lo largo del mapeado, mientras que Rotation lo gira alrededor de la normal de la superficie base. Random offset U/V aplica desplazamientos aleatorios a cada repetición en las direcciones del mapeado. Estas opciones permiten conseguir una distribución regular o una variación controlada.

5. Comprueba la altura y los datos de sombreado. Height % define la altura de la geometría resultante en relación con la dimensión Z de la caja de recorte; el 100 por ciento utiliza la altura actual de la caja. Height offset % afecta a la posición de la geometría a lo largo de las normales de la superficie. Use mesh UVW mapping está desactivado de forma predeterminada: cuando está desactivado se utiliza el mapeado de la malla base; cuando está activado, el de las mallas del patrón. Use mesh IDs está activado de forma predeterminada; en ese caso se utilizan los ID de material de los polígonos de las geometrías del patrón. Si se desactiva, se usan los ID de la malla base.

Para aleatorizar las rotaciones en pasos, se usan conjuntamente Use rotation steps y Random rotation. En el ejemplo de la documentación, al activar la opción y establecer Random rotation en 4, el giro se realiza en pasos de 90 grados. Comprueba también el mapping channel que utilizará la superficie base para el tiling.

Crear patrones integrados o personalizados en Houdini

Para usar un patrón de Cosmos, selecciona la geometría de destino en el viewport, abre Cosmos desde la barra de herramientas de V-Ray y descarga un patrón de la categoría Enmesh-Pattern. La operación Import importa el patrón y añade a la red de objetos un nodo V-Ray Enmesh que utiliza la geometría seleccionada como fuente. En los parámetros del nodo se pueden ajustar el tiling, la altura y la rotación. Para añadir un material, conecta el nodo Material al nodo Null e indica el material en los parámetros del nodo Material; después, renderiza en VFB.

También es posible continuar sin seleccionar previamente la geometría de destino. Tras importar el patrón desde Cosmos, localiza el Pattern node correspondiente en la red de objetos. Crea un Object Merge dentro de él y conéctalo a la entrada Source de V-Ray Enmesh. En el campo Object 1, indica la geometría a la que se aplicará el patrón y, en Transform Object, especifica la geometría del patrón. Si la geometría de destino no tiene UV, el patrón no funcionará; por eso, comprueba previamente las UV en el flujo de trabajo de Houdini.

Para crear un patrón personalizado, crea un nodo Geometry en la red de objetos y, dentro de él, añade el nodo HDA V-Ray Enmesh desde Digital Assets > V-Ray Enmesh. Según la documentación, el otro nodo Enmesh disponible en el menú V-Ray tiene parámetros más limitados. Conecta las geometrías del patrón y de la superficie de destino a las entradas correspondientes; puedes importar geometrías existentes con Object Merge. También se pueden utilizar varias geometrías de origen o de referencia. Si el gizmo no abarca el patrón, ajusta su tamaño y posición o utiliza el botón Fit Cropbox.

Flujo de trabajo de visualización arquitectónica y errores comunes

Antes de aplicar Enmesh a superficies extensas en una escena de fachada o interior, prueba el teselado, el mapeado y el comportamiento de los material ID en una geometría pequeña. Así podrás comprobar qué datos de mapeado e ID utiliza el sombreado. Aunque el mapeado de la malla del patrón sea correcto, la opción Use mesh UVW mapping cambia la fuente del mapeado que se utilizará para el sombreado. Si utilizas V-Ray GPU, Chaos recomienda que el valor Z del gizmo sea un poco mayor que el tamaño del bounding box del objeto de origen para evitar el Z-fighting.

Errores comunes:

• Aplicar Enmesh en Houdini a una geometría de destino sin UV; según la documentación, en ese caso el patrón no funcionará.

• Renderizar sin comprobar si la caja de recorte abarca la instancia del patrón. El tamaño y la posición de la caja afectan a la distribución de las repeticiones.

• Pasar por alto qué geometría aporta los datos al activar Use mesh UVW mapping o Use mesh IDs.

• Interpretar el valor de Random rotation como el número de pasos cuando Use rotation steps está desactivado.

• Usar VRayEnmesh junto con geometría de displacement generada en tiempo de render o con V-Ray Fur. Chaos indica que estas funciones no son compatibles.