Kurz gesagt
- VRayEnmeshMod wiederholt Musterg eometrie beim Rendern auf einer Mesh-Oberfläche.
- Verzerrte UV-Koordinaten können zu unerwünschten Verformungen in Mustern und zufällig variierten Texturen führen.
- Bei ebenen Flächen wird empfohlen, die UVW-Map-Maße anzugleichen; bei organischen Oberflächen sollten die UVs entpackt und so weit wie möglich abgeflacht werden.
- VRayUVWRandomizer und VRayMultiSubTex lassen sich gemeinsam mit dem Randomisierungsmodus By instance ID verwenden.
V-Ray Enmesh lässt sich in 3ds Max einsetzen, um wiederholte Muster wie Fliesen, Gewebe, Kettengeflecht oder Netze auf einer Mesh-Oberfläche zu platzieren. Laut der offiziellen Dokumentation von Chaos werden diese Muster beim Rendern erzeugt; ihr Aussehen hängt maßgeblich vom UV-Mapping der zugrunde liegenden Geometrie ab. Der folgende Workflow basiert auf den in der Dokumentation zu V-Ray for 3ds Max beschriebenen Methoden mit VRayEnmeshMod und zur Texturrandomisierung. Für den Enmesh-Workflow nennt die Dokumentation keine konkrete V-Ray-Versionsnummer. Außerdem weist sie darauf hin, dass sich die Benutzeroberfläche aufgrund von Einschränkungen der in 3ds Max 2018 eingebetteten Qt-Version etwas unterscheiden kann.
1. Musterg eometrie und Enmesh-Bereich vorbereiten
Erstellen Sie das Mesh, das als Muster dienen soll. Die Mesh-Objekte, die der Objects-Liste in VRayEnmeshMod hinzugefügt werden, bilden die Musterinstanzen, die auf der Basisoberfläche wiederholt werden. Mehrere hinzugefügte Objekte ermöglichen komplexere Muster, die gemeinsam gekachelt werden.
Wählen Sie die Geometrie der Basisoberfläche aus und fügen Sie VRayEnmeshMod hinzu. In der Dokumentation genannte Pfade zur Benutzeroberfläche sind
Command panel > Modify tab > Modifier List > VRayEnmeshMod,V-Ray menu > Create > Modifiers > V-Ray EnMesh ModundModifiers menu > V-Ray > V-Ray EnMesh Mod.Passen Sie das Crop box-Gizmo an die Musterg eometrie an. Der Rahmen umschließt die aufgelistete Instanz; Größe und Position beeinflussen, wie das Muster zugeschnitten und wiederholt wird. Mit Fit in object space lassen sich Objekte in den Rahmen einpassen. Für nahtlose Wiederholungen müssen die Rahmenkanten an geeigneten Stellen durch die Musterteile verlaufen.
Ändern Sie mit Tiling U/V die Wiederholungsdichte auf der Basisoberfläche. Offset U/V verschiebt das Muster entlang des lokalen Mappings der Oberfläche, während Rotation die Drehung um die Oberflächennormale festlegt. Da diese Parameter unterschiedliche Aufgaben erfüllen, sollten Sie Skalierung und Ausrichtung separat kontrollieren.
2. UVW-Verzerrungen beheben
Die Anordnung des Enmesh-Musters hängt vom Mapping der Basisgeometrie ab. Sind die UV-Koordinaten gestreckt, können auch Fliesenformen und darauf liegende Texturen verzerrt wirken. Der Beispiel-Workflow von Chaos empfiehlt, bei ebenen oder quaderförmigen Geometrien eine UVW Map hinzuzufügen und ihre Maße anzupassen. Bei komplexen, gekrümmten Oberflächen sollten die UVs dagegen entpackt und abgeflacht werden.
Fügen Sie der Basisgeometrie eine UVW Map hinzu. Wenn Sie als Mapping-Typ Box verwenden, klicken Sie auf Fit. Dadurch werden die Mapping-Abmessungen an die Geometrie angepasst.
Prüfen Sie die Maße Length, Width und Height. Im Quaderbeispiel der Dokumentation wird das größte Maß von 83,54 cm auf die beiden anderen Achsen übertragen, sodass alle Maße übereinstimmen. Damit soll verhindert werden, dass die angewendete Textur und das Muster entlang verschiedener Achsen unterschiedlich stark verzerrt werden.
Verschieben Sie bei Bedarf das UVW-Map-Gizmo an eine Kante der Basisgeometrie und richten Sie es dort aus. So lässt sich verhindern, dass das Muster an den Oberflächenkanten abgeschnitten wirkt. Wenn sich nach dem Verschieben des Gizmos das Muster oder die Textur verschiebt, passen Sie die Offset U/V-Werte von Enmesh erneut an.
Passen Sie die Tiling U/V-Werte von Enmesh an die gewünschte Musterdichte an. Die folgenden Maße sind Beispiele aus der Chaos-Dokumentation und keine festen oder universellen Empfehlungen für jedes Modell.
| Einstellung | Empfohlener Wert | Wirkung |
|---|---|---|
| UVW Map Length, Width, Height | Beispiel: 83,54 cm | Gleicht die Achsenmaße der Beispielgeometrie an und reduziert UV-Verzerrungen. |
| Tiling U/V | Beispiele: 10 / 10, 20 / 20 oder 40 / 40 | Ändert die Wiederholungsdichte des Musters auf der Oberfläche. |
| Offset U/V | Je nach Beispiel 1 / 1 oder Offset V = 8 | Hilft, eine verschobene Textur nach Änderungen am Gizmo oder Mapping neu auszurichten. |
3. Texturvariationen und Material-IDs einstellen
Um zu vermeiden, dass die Muster wie identische Kopien aussehen, beschreibt die Chaos-Dokumentation die Optionen VRayUVWRandomizer und VRayMultiSubTex. VRayUVWRandomizer lässt sich mit dem Diffuse-Kanal und, falls vorhanden, auch mit anderen Kanälen wie Reflection, Glossiness und Bump verbinden. Ist der Randomisierungsmodus auf By instance ID eingestellt, können die Musterinstanzen unterschiedlich variiert werden.
Für Farbvariationen wie Farbton, Sättigung und Gamma lässt sich VRayMultiSubTex verwenden. Für diese Textur zeigt die Dokumentation die Option Get ID From: Random sowie den Modus By instance ID. VRayUVWRandomizer und VRayMultiSubTex können im selben Material-Setup gemeinsam eingesetzt werden, um sowohl die Texturdrehung als auch die Farbvariation zu steuern. Wenn sich der Bereich der zufälligen Textur nach dem Verschieben des Mapping-Gizmos von der Oberfläche löst, passen Sie die Offset-Werte von Enmesh erneut an. In einem Beispiel-Setup der Quelle wird Offset V = 8 verwendet.
Wenn das Muster-Mesh mehrere Material-IDs enthält, prüfen Sie die Option Use mesh IDs. Sie ist standardmäßig aktiviert. Ist sie eingeschaltet, werden die Polygon-Material-IDs des Muster-Meshes verwendet. Wird sie deaktiviert, kommen die IDs des Basisobjekts zum Einsatz. Use mesh UVW mapping ist standardmäßig ausgeschaltet. In diesem Zustand wird das Mapping der Basisoberfläche verwendet. Ist das UVW-Mapping des Musterobjekts korrekt, können Sie diese Option aktivieren, um das Mapping der Musterg eometrie zu verwenden.
4. Methode passend zum Oberflächentyp wählen
Bei ebenen Oberflächen mit bekannten Maßen bietet es sich an, zunächst die UVW-Map-Maße anzupassen und das Gizmo an einer Kante auszurichten. So lässt sich das Ergebnis in der Regel gut kontrollieren. Bei organischen oder gekrümmten Oberflächen weist Chaos darauf hin, dass eine UVW Map möglicherweise kein korrektes Mapping erzeugt. Für solche Geometrien empfiehlt es sich, die UVs zu entpacken und so weit wie möglich abzuflachen. Das kann Verzerrungen des Musters und seines Materials reduzieren.
Beachten Sie auch die Einschränkungen von VRayEnmesh: Laut Quelldokumentation ist es mit Displacement-Geometrie, die zur Renderzeit erzeugt wird, sowie mit V-Ray Fur nicht kompatibel. Bei Verwendung von V-Ray GPU wird empfohlen, den Z-Wert des Gizmos etwas größer als das Maß der Bounding Box des Quellobjekts einzustellen, um Z-Fighting zu vermeiden.
Häufige Fehler
Die Tiling-Werte erhöhen, ohne zuvor die UVs zu prüfen: Die Wiederholungsdichte ändert sich, die Verzerrungen des zugrunde liegenden Mappings bleiben jedoch möglicherweise bestehen.
Die Crop box nicht an die Musterg eometrie anpassen: Ungünstig positionierte Rahmenkanten können eine nahtlose Wiederholung verhindern.
Nach dem Verschieben des UVW-Gizmos die Offset-Werte nicht prüfen: Das Muster oder die randomisierten Texturen bedecken möglicherweise nicht mehr die gesamte Oberfläche.
Bei gekrümmten Oberflächen ausschließlich auf planares, zylindrisches oder sphärisches Mapping vertrauen: Laut Dokumentation können diese Methoden bei komplexen Kurven Verzerrungen hinterlassen; das Entpacken der UVs ist dann besser geeignet.
Quellen
2 QuellenQuelltexte werden nicht neu veröffentlicht; kurze Zitate sind gekennzeichnet, der Rest ist eigene Zusammenfassung und Einordnung.
Enmesh kann für Visualisierungsteams eine praktische Option sein, wenn sie wiederkehrende Gewebe-, Fliesen- oder Oberflächendetails über ein Muster direkt auf die Oberfläche bringen möchten, statt jedes Detail einzeln als Szenengeometrie aufzubauen. Das Ergebnis hängt jedoch nicht nur von den Tiling-Einstellungen ab, sondern auch vom UVW-Layout der Basisoberfläche und von der Position der Musterinstanz innerhalb der Crop box. In Produktionsdateien kann es daher Zeit sparen, Mapping und Kantenausrichtung zunächst an einer kleinen Testfläche zu überprüfen.
Für Büros in der Türkei ist wichtig, nicht automatisch davon auszugehen, dass dieser Workflow Hardware- oder Lizenzkosten senkt; die Quellen machen keine Angaben zu entsprechenden Leistungs- oder Kostenvorteilen. Bei Verwendung von V-Ray GPU sollte der Hinweis zum Z-Wert in die Checkliste vor dem Rendern aufgenommen werden. Auch die Inkompatibilität mit Render-Time-Displacement und V-Ray Fur sollte bei der Szenenplanung berücksichtigt werden.
Häufige Fragen
Wofür wird V-Ray Enmesh in 3ds Max verwendet?
VRayEnmeshMod erzeugt wiederholte Musterg eometrien auf einer Mesh-Oberfläche. Chaos nennt Gewebe, Kettengeflecht und netzartige Muster als Beispiele.
Wie lassen sich UVW-Verzerrungen in einem V-Ray-Enmesh-Muster beheben?
Die Chaos-Dokumentation zeigt, wie sich bei ebenen Geometrien eine UVW Map verwenden, ihre Maße anpassen und das Gizmo bei Bedarf an einer Kante ausrichten lässt. Bei organischen Oberflächen wird empfohlen, die UVs zu entpacken und so weit wie möglich abzuflachen.
Lässt sich VRayEnmeshMod mit V-Ray GPU und Displacement verwenden?
Laut Dokumentation ist VRayEnmesh nicht mit Displacement-Geometrie kompatibel, die zur Renderzeit erzeugt wird, und auch nicht mit V-Ray Fur. Bei V-Ray GPU wird empfohlen, den Z-Wert des Gizmos etwas größer als die Bounding Box des Quellobjekts einzustellen, um Z-Fighting zu vermeiden.
